Miri tantalujintużaw prinċipalment f'diversi proċessi ta 'depożizzjoni ta' film irqiq, li jkopru varjetà ta 'oqsma ta' teknoloġija għolja mill-elettronika u manifattura ta 'semikondutturi għal kisjiet kontra l-korrużjoni u tagħmir mediku.
Fil-qasam tal-manifattura tal-elettronika u s-semikondutturi, il-miri tat-Tantalu saru sors importanti ta 'materjali tal-film irqiq permezz ta' deposizzjoni fiżiċi tal-fwar (PVD) jew teknoloġija ta 'deposizzjoni tal-fwar kimiku (CVD). Huwa użat prinċipalment għal kisi tas-semikondutturi u kisi ottiku, bħalma huma l-iffurmar ta 'barrieri ta' diffużjoni ta 'film irqiq biex jipproteġu l-interkonnessjonijiet tar-ram, u għall-manifattura ta' prodotti bħal mezzi ta 'ħażna manjetika, irjus tal-istampatur inkjet u wirjiet tal-pannelli ċatti.
Barra minn hekk, il-miri tantalu huma wkoll użati ħafna fil-manifattura ta 'tagħmir kimiku, tubi tal-vakwu, apparat mediku u impjanti minħabba r-reżistenza eċċellenti tagħhom għall-korrużjoni, punt ta' tidwib għoli u bijokompatibilità. F’tagħmir kimiku, il-miri tat-Tantalu jistgħu jifilħu temperaturi għoljin, aċidi b’saħħithom u alkali b’saħħithom, u juru stabbiltà estremament għolja.
Tantalum sputtering fil-wiri tal-prodott
